本报讯 （记者刘晓一）深圳市龙图光罩股份有限公司（以下简称“龙图光罩”）将于8月6日迎来科创板上市一周年。作为国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商，公司在上市之际推进的核心募投项目——珠海高端半导体芯片掩模版制造基地，现已取得阶段性成果，彰显了其在半导体关键材料领域的突破实力。
龙图光罩相关人士向《证券日报》记者介绍，2025年上半年，公司珠海工厂现已顺利投产。其90nm节点产品已实现从研发到量产的跨越，65nm产品也已进入送样验证阶段。经过多年发展，公司半导体掩模版工艺节点从1μm已提升至65nm，不仅填补了国内相关领域的产能缺口，更以技术创新为我国特色工艺半导体产业筑牢了发展根基。
政策东风引路
珠海工厂肩负技术攻坚使命
半导体掩模版被誉为芯片制造的“母版”，其精度与制程能力直接决定芯片的最小线宽和性能上限，是半导体产业链中不可或缺的关键环节。行业数据显示，2024年全球半导体市场规模已突破6000亿美元，同比增长近20%。在这一轮产业扩张中，中国半导体产业链的自主可控需求尤为迫切。
国家密集出台政策支持半导体掩模版产业发展。《“十四五”国家信息化规划》明确提出“加快集成电路关键技术攻关”；《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》则从财税、研发等多维度给予支持，为行业技术攻坚提供了政策保障。
龙图光罩成立于2010年，是拥有自主知识产权的独立第三方半导体掩模版厂商。公司产品广泛应用于功率半导体、MEMS传感器、IC封装、模拟IC等特色工艺半导体领域，终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子等场景。
2024年8月份，龙图光罩在上交所科创板上市。公司将上市募集的资金重点投向珠海工厂，即高端半导体芯片掩模版制造基地和高端半导体芯片掩模版研发中心两个项目，全力推进高端掩模版技术突破。
往前回顾，2022年8月份，龙图光罩在珠海高新区设立子公司——珠海市龙图光罩科技有限公司（以下简称“珠海龙图”），并启动建设上述两个募投的高端半导体芯片掩模版项目。珠海龙图规划的厂区占地面积约2万平方米，计划一期生产65nm至130nm工艺节点的芯片掩模版，可满足芯片设计公司及晶圆厂对该制程范围内的光罩产品需求。
2025年上半年，龙图光罩珠海工厂已顺利投产。目前，公司第三代PSM产品的工艺调试与样品试制已顺利完成，KrF-PSM和ArF-PSM产品陆续送抵部分客户进行验证；90nm节点产品成功实现从研发到量产的跨越，成为国内少数能稳定供应该制程掩模版的企业；65nm产品也已进入送样验证阶段，进展符合预期。
这一系列成果的取得，不仅让珠海工厂成为公司突破高端制程的“主阵地”，更有助于我国打破在中高端掩模版领域长期以来的技术壁垒，为产业链上下游协同发展提供了关键支撑。
技术创新驱动
勾勒高端制程新图景
据了解，掩模版制造是一门融合精密光学、材料科学与软件工程的“微观雕刻艺术”，90nm以下制程对精度控制、缺陷检测的要求极为苛刻，任何微小误差都可能导致下游芯片良率大幅下降。龙图光罩凭借多年技术积累，构建起覆盖全生产流程的核心技术体系，为珠海工厂的高端化突破提供了“硬支撑”。
公司2024年年报显示，公司在高精度半导体掩模版领域不断进行设备引进与技术攻关，针对半导体掩模版的工艺特点，形成了多项自主研发的核心技术，包括图形补偿（OPC）技术、精准对位标记技术、光刻制程管控技术等，涵盖CAM、光刻、检测三大环节。
截至2024年底，公司已累计获得25项发明专利和36项软件著作权，当年研发投入达2305.07万元，同比增长14.25%，占营业收入比例达9.35%。
站在上市一周年的新起点，龙图光罩将继续以珠海工厂为支点，向高端半导体掩模版领域不断突破，实现“技术跟跑”向“并跑”的跨越，为半导体产业链的自主可控注入源源不断的动力，书写中国半导体材料产业崛起的新篇章。
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